Cilalanmış tantal blok tantalum hədəfi təmiz tantalum ingot
Məhsul parametrləri
| Məhsulun adı | Yüksək sıxlıq yüksək gücü 99.95% TA1 R05200 Saf Tantalum Ingot Qiyməti |
| Saflıq | 99.95% Min |
| Qiymət | R05200, R05400, R05252, RO5255, R05240 |
| Standart | ASTM B708, GB / T 3629 |
| Ölçü | Maddə; Qalınlığı (mm); Eni (mm); Uzunluq (mm) |
| Folqa; 0.01-0.09; 30-150; > 200 | |
| Təbəqə; 0.1-0.5; 30-609.6; 30-1000 | |
| boşqab; 0.5-10; 50-1000; 50-2000 | |
| Şərt | 1. İsti-yuvarlanan / soyuq haddelenmiş; 2. qələvi təmizlənməsi; 3. Elektrolitik polyak; 4. emal, üyütmə; 5. Stress relyefi yumrulama |
| Mexanik əmlak (tıxanmış) | Sinif; Gərginlik gücü min; Güclü Güclü Min Uzun Min,% (UNS); PSI (MPA); PSI (MPA) (2%); (1in. Gage uzunluğu) |
| (RO5200, RO5400); 30000 (207); 20000 (138); 20-ci il | |
| TA-10W (RO5255); 70000 (482); 60000 (414); 15 | |
| TA-2.5W (RO5252); 40000 (276); 30000 (207); 20-ci il | |
| TA-40NB (RO5240); 35000 (241); 20000 (138); Əqrəb | |
| Xüsusi məhsullar | Rəsmdən verilən məlumata görə, təchizatçı və alıcı tərəfindən razılaşdırılacaq xüsusi tələblər. |
Tantal dərəcəli və tərkibi
| Rate% | |||||||||||||
| Qiymət | Əsas kompozisiya | Maksimum maksimum | |||||||||||
| Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | Nb | O | C | H | N | |
| Ta1 | Tarazlıq | - | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 0.01 | 0.01 | 0.002 | 0.03 | 0.015 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| Ta2 | Tarazlıq | - | 0.03 | 0.02 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | 0.1 | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| TANB3 | Tarazlıq | <3.5 | 0.03 | 0.03 | 0.005 | 0.04 | 0.03 | 0.005 | - | 0.02 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 |
| Ta2.5w (ro5252) | Tarazlıq | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 3.0 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.015 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
| TA10W (RO5255) | Tarazlıq | 0.005 | 0.005 | 0.002 | 11 | 0.01 | 0.002 | 0.04 | 0.015 | 0.01 | 0.0015 | 0.01 | |
Bütün tantal məhsulları mövcuddur
| Məhsulun adı | Qiymət | Standart |
| Tantal külçə | (Ta) ro5200, ro5400,Ro5252 (ta-2.5w),RO5255 (TA-10W) | Astmb708-98,ASTM521- 92,ASTM521-98,Astmb365,ASTM B365-98 |
| Tantal çubuqlar | ||
| Tantal boru | ||
| Tantal tel | ||
| Tantal təbəqə | ||
| Tantalum çarpaz | ||
| Tantal hədəf | ||
| Tantal hissələri |
Xüsusiyyət
Yaxşı çürüklük
Yaxşı plastiklik
Əla turşuya qarşı müqavimət
Yüksək ərimə nöqtəsi, yüksək qaynar nöqtə
İstilik genişlənməsinin çox kiçik əmsalları
Hidrogen udmaq və sərbəst buraxma yaxşı imkanları
Tətbiqi
Elektron, Aviasiya və Lektronik Alət sənayesi, polad sənayesi, kimya sənayesi, atom enerjisi sənayesi, aerokosmik aviasiya, sementlənmiş karbid, tibbi müalicə.
Əlaqəli məhsullar
-
4n5 indium metal
Görünüşü Silver-Ağ Ölçü / Çəkiyə 500 +/- 50G, molekulyar çəkidə molekulyar formula 8.37 mω sm ərimə nöqtəsi 156.61 ° C 360 ° C 180-0 5N CU 0N CU 0.4 AG 0.5 MG 0.5 NI 0.5 NI 0.5.5 CD 0.5 CD 0.5 CD 0.5.
-
Təchizat Yüksək saflıq 99.9% sferik tökmə ...
Məhsul Parametrləri Maddə Dəyəri yeri 235-123-0 Müqavimət 19.2 * 10-6ω * CM sıxlığı 15.63G / M3 BMT nömrəsi Un3178 Sərtlik 93.0-93.7hra nümunəsi mövcuddur ...
-
Superconductor Niobium n üçün istifadə olunan fabrik qiyməti ...
Məhsul parametrləri Niobium tel ölçüsü diaqotu ərimə nöqtəsi 3) daha yaxşı korroziya yaşaması 4) Daha yaxşı aşınma müqavimət göstərən texnologiya tozu metallurgiyası Time 10-15 ...
-
Yüksək təmiz 99.95% və yüksək keyfiyyətli molibden pi ...
Məhsul Parametrləri Məhsulun adı Ən yaxşı qiymət təmiz molibden borusu müxtəlif spesifikasiyalara malik təmiz molibden boru və ya molibden lehimli ölçüsü arayış Aşağıdakı təfərrüatlar model nömrəsi Sənayedə spesifikasiyanı müştərilərin tələbləri tərəfindən dəyişdiriləcəkdir. ...
-
99.95 molibden təmiz molibden məhsul moly s ...
Məhsul Parametrləri Molybdenum vərəqi / Plate dərəcəsi Səthi soyuqdəyilmiş səthə işlənmiş səth texnologiyası ekstruziyası, saxta və yayma testi və keyfiyyət ölçülü yoxlama görünüşü yarışı ...
-
Yüksək saflıq 99.9% NANO TANTALUM PULSUZ / TANTAL ...
Məhsul Parametrləri Məhsul Adı Tantalum Pudra Markası HSG modeli Bu güclü və çevik bir metaldır və 150 ° C-dən aşağı olan temperaturda (302 ° F), bu metal kimyəvi hücum üçün olduqca immunitetdir. Korroziyaya davamlı olduğu bilinir, çünki istifadə edilən səth tətbiqində bir oksid filmi ...